グラフェンのエポキシ官能基化の分析

エポキシ基の官能化

最も一般的な有機分子の機能に関する酸化グラフェンエポキシ基は、アミノまたはチオールと求核性の開環反応を持っています。 Shiおよび他の非常に可逆的なREDOX、安定した有機小分子-2-アミノアントラキノン（AAQ）、グラフェン酸化物上のエポキシ官能基の開環反応により、AAQアミノ共有結合がグラフェンシートの酸化にグラフトされ、グラフェン酸化物のアントラキノンが得られます（以下、AQGOと呼びます）は、AAQ AQGO還元、つまり、修飾された化学変換グラフェン（CCG）/装飾されていないCCG複合多孔質ヒドロゲル（以下、AQSGH）コンデンサーの後のアセンブリを取得します。

元素分析の結果、AQGOの窒素含有量は1.1 wt％、C / N原子番号比は約55：1であることが示されています。 14：1のC / N比AAQにより、平均41個の酸化グラフェングラフト炭素原子がAAQ分子であるため、グラフト率は非常に高く、AQGO含有量のAAQ残基は17.5％です。 XRDの結果は、AQGO層の間隔が（0.907 nm）酸化グラフェン（0.798 nm）よりも大きく、ピーク幅の半分が増加していることを示しています。これは、AAQ共有結合グラフトがより緩くなるためにラメラ間の配置を示しています。 AFMの特性評価である約1.2nmのAQGOの厚さは、装飾されていない単層の酸化グラフェンよりもわずかに大きく、依然として単層です。グラフェンとAAQマトリックスとしてのヒドロゲル層構造の自己組織化は、高いグラフト率、優れた導電性、および固体力学を提供します。

マオは、システアミンとの開環反応の表面にエポキシ基を使用するなど、最初にグラフェンのチオール官能基化を取得し、次にチオール硫黄と金電極表面を介して金を形成します-キー、検出を実現するために図15に示すように、水銀イオンのスウェージャーなど。マロノニトリルアニオンとグラフェンオキシドの攻撃下で、エポキシ基の開ループ、一端がヒドロキシルに接続され、他端がマロノニトリルに接続されています。マロノニトリルスルホン酸塩試薬と酸化グラフェン反応を使用すると、親水性のスルホン酸塩が強いため、水中のグラフェン分散液の官能化が非常に良好になります。エポキシ基の求核反応に基づいて、修飾グラフェン材料の簡単な調製方法を提供し、潜在的なアプリケーションの見通しがあります。

元素ドーピングの変更

共有結合と非共有結合を介して、新しいグループを導入し、グラフェンに優れた性能を与えることができます。もう1つは、グラフェン元素のドーピング修飾の一種の機能修飾法です。通常、アニーリング熱処理、イオン衝撃、アーク放電法は、グラフェンの欠陥、空孔欠陥、固有の二次元グラフェン構造を同時に変更せずに置き換えるために、異なる元素と混合するなどのグラフェン法で採用されています。変化の表面特性と新しいパフォーマンスを提供します。ドゥアンは、グラフェンなどの熱アニーリング処理と6.54の硝酸アンモニウムの調製方法を採用しています。 ％の窒素ドープグラフェン、フェノール分解効率の接触酸化はドーピングの5.4倍であり、B、P、またはNドープグラフェンの相乗効果も研究されています。ダイ等はNH3気温熱処理で酸化グラフェンになり、N型窒素ドープグラフェンの窒素含有量が異なります。 300℃〜1100℃の温度で、窒素ドーピング含有量は約3％〜5％、そのうち500℃、窒素含有量ドーピングは最大5％ジャファリなどに達しました。酸化ホウ素粉末によるエタノール蒸気によるHotFilament化学蒸着法グラフェンの表面でBと混合されたホウ素ドープグラフェンデバイスは、NOやNO2などの有毒ガスの検出に使用できます。元素をドープしたグラフェンは、グラフェンのバンド構造を効果的に変化させ、新しい機能性グラフェンエレクトロニクスの開発を促進します。

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